半導体デバイス製造クリーンルームにおける気中ナノ粒子計測の展望：気中ナノ粒子による加工不良低減に向けて

摘要

ナノ粒子による製品歩留り影響低減のため、半導体デバイス製造クリーンルーム内で気中ナノ粒子計測を進めている。計測の中で得られたナノ粒子の発塵挙動の知見、計測の課題、製品歩留り向上に向けた今後の動きについて報告する。