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机译:用于EOT = 0.5nm的稀土MOS装置的高温短期热处理
来山大祐; 小柳友常; 角嶋邦之; Parhat Ahmet; 筒井一生; 西山彰; 杉井信之; 名取研二; 服部健雄; 岩井洋;
東京工業大学フロンティア研究機構;
東京工業大学大学院総合理工学研究科;
EOT; High-k; 希土類酸化物; シリケート; 耐熱性;
机译:EOT = 0.5 nm的稀土MOS器件的高温短时热处理检查
机译:EOT = 0.5nm的稀土MOS器件的高温短时热处理检查
机译:结合生物修复和物理化学处理缩短硒酸污染土壤净化处理的研究
机译:使用批处理设备操作的用户界面设计中的“易理解性”研究
机译:用于先进半导体器件制造中实现高通量自动缺陷检测和分类系统的图像处理技术的研究
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