首页> 外文期刊>Физикаи химия обработки материалов >Структура тонких пленок Ва_(0,7)Sr_(0,3)TiO_3, нанесенных на кремниевые подложки методом импульсного лазерного напыления
【24h】

Структура тонких пленок Ва_(0,7)Sr_(0,3)TiO_3, нанесенных на кремниевые подложки методом импульсного лазерного напыления

机译:薄膜VA_(0.7)SR_(0.3)TiO_3的结构通过脉冲激光喷涂施加到硅基板上

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Методом импульсного лазерного испарения с использованием Nd:YAG лазера, работающего в режиме свободной генерации, получены сегнетоэлектрические тонкие пленки Ва_(0,7)Sr_(0,3)TiO_3 на кремниевых подложках при температурах 200 и 450 deg С. Исследовано влияние температуры подложки и времени напыления на структуру, фазовый состав и топографию поверхности пленок.
机译:使用Nd:YAG激光在自由产生模式下操作的脉冲激光蒸发方法,获得200和450℃温度的硅基衬底上的铁电薄膜Va_(0.3)Sr_(0.3)TiO_3。基板温度和效果沉积时间对薄膜表面的结构,相组成和形貌。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号