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モシテカルロデバイスシミュレーション法を用いた高速撮像素子の解析

机译:采用电机CITE CARLO器件仿真方法分析高速成像装置

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摘要

裏面照射(BSI)画素周辺記録型撮像素子(ISIS)の高速撮像限界に対する考察をモンテカルロ(MC)デバイスシミュレーション法を用いて行った.発生した光電子が,収集ゲートに到達するまで要する走行時間のばらつきが撮像時間分解能を律達する原理的要因となる.本報告では,個々の電子の確率的な挙動を追跡するMCシミュレーションが,この種の統計解析に非常に適していることを示すとともに,光電子収集時間のばらつきを増大させる機構について理論的な分析を行った.
机译:使用Monte Carlo(MC)器件仿真方法执行对背面辐射(BSI)像素外围记录型成像装置(ISIS)的高速成像极限的考虑。 产生的光电子导致到达收集门所需的行进时间的变化,这导致成像时间分辨率。 在本报告中,追踪各个电子的概率行为的MC模拟表明它们非常适合这种类型的统计分析,以及增加光电子收集时间的变化的机制的理论分析。

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