Показано, что при нанесении диэлектрического покрытия происходит отклонение формы его профиля от первоначальной формы профиля металлической решетки ("замывание"). Путем чие-ленного моделирования и измерений на электронно-лучевом микроскопе определена величина замывания. Показано, что уменьшение глубины штрихов является основным фактором, снижающим дифракционную эффективность и лучевую стойкость металлических дифракционных решеток с многослойными диэлектрическими покрытиями. Оптимизация условий нанесения таких покрытий, в том числе и с использованием диэлектриков с большой разностью показателей преломления, позволяет сгладить эффект замывания.
展开▼
