首页> 外文期刊>Приборы и техника эксперимента >СПОСОБ УМЕНЬШЕНИЯ ПОРОГОВОЙ ДОЗЫ ОБЛУЧЕНИЯ ИОНАМИ ВОДОРОДА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ БЛИСТЕРОВ В КРЕМНИИ
【24h】

СПОСОБ УМЕНЬШЕНИЯ ПОРОГОВОЙ ДОЗЫ ОБЛУЧЕНИЯ ИОНАМИ ВОДОРОДА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ БЛИСТЕРОВ В КРЕМНИИ

机译:用氢离子照射阈值剂量在硅中形成泡罩的方法

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
获取外文期刊封面目录资料

摘要

Рассматриваются условия уменьшения пороговой дозы радиационно-газового скалывания монокристалла кремния путем использования в едином производственном цикле двухэтапного облучения ионами водорода фиксированной энергии. Экспериментально установлено, что в образце в режиме двухэтапного его облучения ионами водорода с E = 12.5 кэВ дозой 0.5 · 10~(16)см~(-2) при нормальном угле падения частиц на первом этапе, а затем дозой 1 · 10~(16)см~(-2) под углом 32° на втором этапе (суммарная доза 1.5 · 10~(16)см~(-2)) формируется хорошо развитая блистерная структура, подобная структуре в образце, облученном в режиме одноэтапного облучения до дозы 5 · 10~(16)см~(-2). Это свидетельствует о реализации условий более чем трехкратного понижения порога образования водородных блистеров в кремнии при двухэтапном облучении ионами водорода одной энергии в едином производственном цикле.
机译:考虑了通过固定能量氢离子的两阶段照射的单一生产循环减少硅单晶的阈值 - 气体升降的条件。实验地确定,在氢气的两级照射模式中,用E = 12.5keV剂量0.5·10〜(16),Cm〜(-2)在第一阶段的正常角度下,然后在第二阶段的32°角度下剂量1·10〜(16)cm〜(-2)(总剂量1.5·10〜(16)cm〜(-2))形成良好发育泡罩结构,类似于在将样品中照射的样品中的结构,以剂量5·10〜(16)cm〜(-2)。这表明在硅中形成氢气在硅中形成氢气的阈值的阈值的条件的实现,其在单个生产循环中具有双级能量的氢离子的两级照射。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号