...
首页> 外文期刊>Электротехника >Сравнительный анализ статических характеристик биполярных транзисторов с изолированным затвором и тиристоров с полевым управлением
【24h】

Сравнительный анализ статических характеристик биполярных транзисторов с изолированным затвором и тиристоров с полевым управлением

机译:的绝缘栅双极晶体管的静态特性的比较分析,并与场控制晶闸​​管

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

Проведено двумерное численное моделирование эквивалентных кремниевых биполярных транзисторов с изолированным затвором (БТИЗ) и тиристоров с электростатическим управлением (СИТ) траншейной конструкции в блокирующем и проводящем состоянии. Толщина d высокоомной п-базы изменялась в пределах 120-456 мкм при концентрациях доноров N_d = (7,0÷1,75)·10~(13) см~3 и диффузионной длине неравновесных носителей заряда L = (0,25÷1,0)d. Сравнительный анализ результатов показал, что блокирующие характеристики СИТ и БТИЗ практически совпадают, а напряжение пробоя U_b изменяется в пределах 1,4-4,6 кВ в зависимости от d, N_d и L. Падение напряжения в открытом состоянии у БТИЗ без стоп-слоя заметно больше, чем у СИТ, преимущество которого увеличивается с ростом U_b и с уменъшеним L. Причиной этого является относительно низкая эффективность инжекции катодного эмиттера БТИЗ, приводящая к сильному снижению концентрации неравновесных носителей заряда вблизи катода и соответствующему росту напряженности поля. Введение в БТИЗ дополнительного тонкого стоп-слоя п-типа между базой и коллектором существенно ослабляет утечку дырок. Это повышает эффективность инжекции и приводит к существенному росту концентрации п электронов и дырок и снижению напряженности поля Е в ближайшей к катоду половине базы БТИЗ. В результате падения напряжения на БТИЗ и на СИТ сближаются между собой, причем тем сильнее, чем меньше L и плотность тока и чем больше U_b. Однако и в таком модифицированном БТИЗ концентрация п остается меньше, а напряженность поля Е больше, чем в СИТ. Поэтому при плотностях тока J>10 А/см~2 СИТ обладает меньшим сопротивлением в открытом состоянии, чем эквивалентный модифицированный БТИЗ.
机译:用隔离的快门(BTIZ)和具有静电控制(SIT)的相同硅双极晶体管的二维数值模拟在阻挡和导电状态下具有沟槽设计的静电控制(SIT)。高水平P碱的厚度d在供体N_D =(7.0÷1.75)·10〜(13)cm〜3和非平衡电荷载体的扩散长度的浓度下改变为120-456μm l =(0.25÷1 0)d。结果的比较分析表明,静置和BTI的阻塞特性几乎相一致,并且击穿电压U_B根据D,N_D和L而变化在1.4-4.6kV的范围内。BTIZ中的开放状态下的电压降。在没有静止的静止的情况下没有停止层,其优点随着增加的U_B和禁用L.这是对BTID的阴极发射器注射的效率相对较低,导致强度变得强劲在阴极附近的非平衡电荷载流子的浓度和场强的相应生长。在基部和收集器之间的P型额外薄停止层的BTID引入显着削弱了孔的泄漏。这增加了注射的有效性,并导致电子和孔浓度的显着增加,并且在阴极附近的BTIZ底座中间的场强E降低。由于BTID上的电压降,并且静态彼此接近,而不是较少的L和电流的密度和更大的U_B。然而,在这种改进的BTIZ中,n的浓度仍然少,并且场强e大于静止。因此,当电流密度J> 10a / cm〜2时,筛网在开放状态下具有比等同的改性的BTIZ的阻力。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号