Применение магнетронной распылительной системы дуального типа для получения углеродных пленок высокой чистоты

摘要

Рассмотрены вопросы, связанные с чистотой пленок, получаемых магнетронным распылением дуального типа. Показано, что при большой мощности магнетрона и близком расположении стенок камеры от магнетрона происходит загрязнение наносимых покрытий материалом стенок камеры. Для повышения чистоты наносимых покрытий предложено использовать протяженный экран. Элементный состав полученных покрытий исследовался с использованием метода рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии без разрушения пленки.