コヒーレントEUV光発生用高出力超短パルスレーザー

摘要

Ti:Sapphireレーザーを用いたコヒーレント13.5nmの発生は理化学研究所のグループが行い、コヒーレント13.5nmを用いたマスクパタン検査法は兵庫県立大学のグループが実施する。将来の実用化を考えるとき、コヒーレント13.5nmの高出力化が課題となる。そこで、原理的に熱発生の少ないOPCPA （Optical Parametric Chirp Pulse Amplification）を用いた高繰り返し超短パルスレーザーの開発（大阪大学グループ）を進めている。また、OPC池の励起光（532nm，100mJ，2ns，5kHz）は、これ自身が高出力パルス光源であり、レーザーピーニングをはじめとする産業応用への利用が期待される。ここでは、大阪大学が中心となって開発中のOPCPA を用いた高繰り返し超短パルスレーザーについて報告する。