...
首页> 外文期刊>Письма в "Журнал технической физики" >Эффект магнитомиграции в гранулированных пленках Со-Си, осаждаемых ионно-плаЗмённым методом
【24h】

Эффект магнитомиграции в гранулированных пленках Со-Си, осаждаемых ионно-плаЗмённым методом

机译:在颗粒膜Co-Si系Magnitomigratsii效果淀积通过离子plaZmonnym

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Исследовано влияние постоянного магнитного поля на структуру и состав гранулированных пленок Со-Си, осаждаемых ионно-плазменным методом. Обнаружен эффект магнитомиграции основных и примесных компонентов. Необходимым условием проявления данного эффекта является высокая подвижность адатомов, для чего пленки осаждали на горячие подложки (200° С) и при высоких энергиях ионного удара. Под воздействием внешнего поля напряженностью более 300 Ое в процессе роста пленки диамагнитные и парамагнитные адатомы разнонаправленно мигрировали по нормали, к его силовым линиям. Используя данный эффект, можно получать тонкие магнитные" пленки с низким содержанием нежелательных примесей, таких как хлор, водород, углерод, аргон и других, обладающих высокой диамагнитной восприимчивостью.
机译:研究了恒定磁场对通过离子等离子体法沉淀的粒状Co-Co膜的结构和组成的影响。发现了基础和杂质成分的磁化作用。这种效果的表现的先决条件是吸附剂的高迁移率,其中薄膜沉积在热基板(200℃)和高离子休克能量上。在外部场的影响下,在300℃的强度的影响下,在薄膜的生长过程中,抗磁性和顺磁性adatoms通过正常迁移到其电力线。使用这种效果,可以获得具有低含氯,氢气,碳,氩气和其他具有高抗磁性敏感性的薄磁性“薄膜。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号