формирование микромодификаций в кристалле KDP при острой фокусировке фемтосекундного лазерного излучения видимого диапазона

摘要

Исследован процесс формирования микромодификаций в объеме кристалла KDP при острой фокусировке импульсов фемтосекундного лазерного излучения (λ≈ 600 нм, длительность импульсов 100 и 200 фс, энергия 0.02 - 10 мкДж). Предложена теоретическая модель, описывающая начальный этап возникновения плазменного канала с учетом полевой ионизации и нагрева электронной компоненты плазмы. Оценены интенсивность лазерного импульса (～10{sup}13 Вт/см{sup}2), концентрация электронов (～10{sup}20 см{sup}(-3) ) и средняя температура электронов (5 эВ) в плазменном канале.