Влияние излучения KrF-лазера на наведенное электронным пучком поглощение в флюорите и кварцевых стеклах

摘要

Исследовано поведение высокочистого флюорита и кварцевых стекол типа КУ-1, КС-4В и Corning 7980 при воздействии электронного пучка и излученияKrF-лазера. Облучение образцов оптических материалов этим лазерным излучением при интенсивностях ～5 МВт/см{sup}2 как в момент воздействия электронного пучка, так и после него приводит к уменьшению остаточного поглощения не менее чем в 1.5 раза.