首页> 外文会议>Laser-Induced Damage in Optical Materials: 1994 >Absorption of ArF- KrF- and Xef-laser radiation in optical materials at the moment of E-beam influence
【24h】

Absorption of ArF- KrF- and Xef-laser radiation in optical materials at the moment of E-beam influence

机译:电子束影响时刻光学材料中ArF- KrF-和Xef激光辐射的吸收

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摘要

Abstract: The results of measurements of the optical density, induced at the moment of influence of the e-beam on crystal MgF$-2$/, CaF$-2$/, BaF$-2$/, Al$-2$/O$-3$/, and also on different silica glasses, performed using laser radiation at 193, 248, and 353 nm, are presented and discussed. !18
机译:摘要:电子束对晶体MgF $ -2 $ /,CaF $ -2 $ /,BaF $ -2 $ /,Al $ -2 $的影响在瞬间产生的光密度的测量结果。提出并讨论了/ O $ -3 $ /,以及在不同的石英玻璃上使用激光在193、248和353 nm处进行的实验。 !18

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