Цель настоящей работы - исследование профиля плазменной оболочки плазмофокусного разряда на завершающей стадии радиального сжатия, динамики пинчевания и последующего развала пинча при использовании различных рабочих газов с помощью электронно-оптических преобразователей. Усовершенствована многоканальная система фотографирования плазмы и разработана система синхронизации. Обнаружено существенное различие в структуре оболочки при работе на тяжелых газах (Ne, Ar) и водороде и дейтерии. Исследовано влияние добавки тяжелых газов (Xe) к водороду и дейтерию на структуру оболочки и динамику сжатия.
展开▼
