X線反射率法の応用について-薄膜·多層膜の埋もれた層·界面の密度，膜厚，ラフネスの決定-

摘要

線反射率法は，薄膜·多層膜の深さ方向の構造を非破壊的かつ簡便に与える実用的な技術である．微小角で単色X線を試料表面に入射させ，その角度を変化させたとき，特徴的な干渉aを含む強度プ口ファイルとして取得され，理論式と実験値のフイッティングやフーI-)エ解析によって，各層の密度·厚さ，表面および各界面のラフネスを決定することができる．原子層レべルのわずかな変化を敏Rに検出きる点は特に優れている．また，結晶構造などには依存せ，平坦かつ平IVな表面·界面でありさえすれば，どhな構造のどhな物質の薄膜·多層膜にも適用できる．本稿では，日々の研究開発にx反射率法をどのように活用できるかという点を主に解説する．