FIB-CVD法による微細三次元構造の作製

坂本直道; 向後保雄

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FIB-CVD法による微細三次元構造の作製

机译：用FIB-CVD方法制造精细的三维结构

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集束イオンビーム化学気相蒸着(FIB-CVD)法は，ナノメートルオーダーで任意の領域に，自由度の高い形状を有する三次元構造体を作製することができる化学気相蒸着(CVD)法のひとつである．本稿では，FIB-CVD法における装置の構成，原理や関連研究について解説する．

机译：聚焦离子束化学气相沉积（FIB-CVD）方法是一种化学气相沉积（CVD）方法，其能够在具有纳米顺序的任意区域中产生具有高度自由度的三维结构。在本文中，我们描述了在FIB-CVD方法中的设备的配置，原理和相关研究。

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来源
《金属》 |2008年第7期|共6页
作者
坂本直道; 向後保雄;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类金属材料;冶金工业;
关键词
入库时间 2022-08-20 12:43:54

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