高周波数デトネーション溶射による高融点セラミックス皮膜の作製

摘要

溶融または半溶融状態の金属やセラミックの粒子を物体表面に吹き付けて表面処理する溶射法の中で，爆発溶射は，熱源温度3000°C～4000°C，ガス噴流600m／sec以上といった特徴を持つ．そのためセラミックスを溶融するのに十分な高温度であり，突き固めによる緻密な高融点材料の皮膜が作製できる．本稿では，高融点材料である酸化アルミニウム，イットリア安定化酸化ジルコニウム，また非酸化物系セラミックスの窒化アルミニウムの緻密な皮膜について紹介する．