電波透過めっき技術の開発

摘要

金属意匠性電波透過膜として，希少金属であるインジウム（In）が利用されている．ドライプロセスにより海島構造に成膜することで，金属意匠性と電波透過性を両立させている．しかしながら，歩留まりやコスト面などに課題がある．本稿では，In代替として，ニッケル（Ni）を利用し，無電解Niめっきによってパターン化もしくは微細クラック被膜とすることで，金属意匠性と電波透過性を両立させた技術について紹介する．