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機能性材料における表面処理技術の現状と展望:表面偏析制御による真空中低摩擦表面の実現

机译:功能材料表面处理技术的现状和前景:通过表面隔离控制实现真空假设表面

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摘要

真空中(10{sup}(-5)Pa以下)では固体表面同士が接触すると接触箇所からガスが放出され真空環境を劣化させるばかりか,清浄表面が暴露されやすいために接触箇所で焼き付きが起きる場合がある.このような真空中で円滑な動作を駆動機構に行わせるためにはその表面に潤滑性を付与しなければならない.そこで,表面偏析現象を応用して大気圧雰囲気(~10{sup}5Pa)と同じように真空中でも円滑な摺動が可能となる表面を創製することを試みてきた.ここでは真空中での低摩擦表面を実現する表面偏析現象を制御する手法について概説したい.
机译:在真空(10 {SUP}(-5)PA或更小)中,当固体表面彼此接触时,释放气体并且真空环境仅劣化,或者在接触点中进行清洁表面因为很容易暴露清洁表面。。 为了使如此真空的平稳操作到驱动机构,必须在表面上提供润滑性。 因此,我们试图通过应用表面分离现象(〜10 {sup} 5pa),创建一个表面,使得允许平滑滑动以平滑地滑动,以便在真空中平稳滑动(〜10 {sup} 5pa)。 这里,我想概述控制在真空中实现低摩擦表面的表面偏析现象的方法。

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