СТРУКТУРА И МИКРОПОРИСТОСТЬ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ КОНДЕНСИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ, ОСАЖДАЕМЫХ ИЗ ДВУХФАЗНОГО ПОТОКА ПЛАЗМЫ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РАЗРЯДА, СОДЕРЖАЩЕГО МИКРОКАПЛИ ИСПАРЯЕМОГО МАТЕРИАЛА

摘要

Исследованы структура и строение "толстых" (до 100 мкм) конденсированных ионно-плазменных многокомпонентных покрытий, полученных осаждением из двухфазного потока вакуумно-дуговой металлической плазмы, содержащей "жидкие" и "твердые" микрокапли испаряемого материала. Показано, что структура покрытий зависит от режима работы катода вакуумно-дугового испарителя (радиационное или принудительное охлаждение катода), силы тока испарителя, потенциала смещения и температуры подложки. Присутствие в потоке плазмы твердых микрокапель испаряемого материала приводит к образованию в конденсате дефектов роста и, как следствие этого, формированию в покрытиях открытой микропористости. Предложен ряд технологических приемов, позволяющих значительно снизить микропористость ионно-плазменных покрытий.