マスク検査装置の欠陥検出画像シミュレーション技術

摘要

近年，半導体製造プロセスは加工寸法の微細化を続けているが，これを支えているのが露光装置の短波長化や露光光学系の高NA （Numerical Aperture：開口数）化，位相マスクのような立体的構造を持つ新型フォトマスクなどである。 特に位相マスクは，光の透過と遮光だけでなく，透過光の位相も活用するため，これに対応した高精度な検査手法が必要である。東芝は，これら新型マスクを検査するのに適した光学系の開発にあたり，ベクトル波モデルの回折光解析技術を活用して，高NAの露光光学系やマスクの立体構造などに対応した高精度な結像シミュレーション技術を開発した。 これを用いて，より欠陥検出精度の高い検査装置の開発に取り組hでいる。