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クリーンルーム大気中の有機成分の分析--シリコンウエー八破砕粉捕集法

机译:洁净室大气中有机成分的分析 - 硅WAE八碎粉收集方法

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摘要

半導体デバイスやその製造プロセスにおいて高集積度化が進み,有機成分による汚染が問題視されている。 ビス(2-エチルへキシル)フタレー卜(以下,DOPと結記)などの可塑剤は.大気中にこく徹墨に存在しぞいても,酸化膜の耐圧不良を引き起こす原因となることか知られこおり,このような.デハイス特性に悪影響を宅える商機成分の分析評価技術の開発が必要とされている。   そこで,当社は,シリコンウ工ーハ破砕粉を摘集村とすることにより,ウリーンーム大気中のシリコンウエーハ上に吸着しやすいDOPなどの南磯成分を,選択的に捕集·分析する方法を開発し,0.01ng/m~3レルの測定を可能とした。
机译:在半导体器件及其制造过程中的更高的满足性进展,有机组分的污染归因于归因于有机组分。 增塑剂如双(2-乙基Xyl)邻晶醇(下文中称为DOP)。 即使它存在于空气中的大气中,已知它导致氧化物膜的压力缺陷。 有必要开发一种对商用飞机组件的分析评估技术产生不利影响去疫的特征。 因此,我们开发了一种选择性地收集和分析诸如DOP的方法,例如易于吸附在骨干中的硅晶片在症状中的天气中的天气中的天气和测量值为0.01 ng /启用M到3只RAT。

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