首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告. 信号処理. Signal Processing >内存ラテイラル·バイポーラ·トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-II
【24h】

内存ラテイラル·バイポーラ·トランジスタの駆動力を用いたCMOS/SOIインバータの回路シミュレーション-II

机译:CMOS / SOI逆变器的电路模拟使用内部LERTIAR双极晶体管-II的驱动力

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
获取外文期刊封面目录资料

摘要

我々は、MOSFET構造に内存するラテイラル·バイポーラ(LB)トランジスタの駆動力に注目した。LBMOSのベース端子に順方向電流を供給する理想的な台形波の電流源を設け[1]、この電流源の実現にプルアップ/カレダウンMOSFETを使い[2]、べース電流を電流増幅率β{sub}f倍したコレクタ電流により駆動力を上げるCMOSインバータの回路方式を提案したそこでは寄生抵抗がない理想的なLBMOS素子としてその動作条件を調べた。 本稿Ⅱでは、0.35μmCMOSプロセスを前提に、ソース側で2重拡散技術[3]を使ってチャンネル(ベース)を作成するLBMOSの素子構造を提案する。 β{sub}f=100とβ{sub}r=1を仮定して、Vdd=1.2Vの場合に、電流源としてプルアップ/プルダウンを使ったLBCMOSインバータで、寄生抵抗や容量を取り入れた精密な回路シミュレーション実験を行った。 特にべース抵抗に加えてエミッタ接合容量の特性低下に及ぼす影響を調べる。 Wn=Wp=1.575μmのLBCMOSインバータは、従来の同寸法のCMOSインバータと比べて、5.534fF(同インバータのゲート容量)×100の大きな容量負荷に対して、10倍も高速で、1/3という低いエネルギーの動作となった。
机译:我们专注于MOSFET结构中的LIVIRAL双极(LB)晶体管的驱动力。理想梯形波的电流源,其向LBMOS底座端子[1]提供前电电流,用于实现该电流源[2]的上拉/卷积MOSFET,基本电流β{sub}的电流放大因子。因此,提出了加倍CMOS逆变器电路方法来增加驱动力,并且研究了操作条件作为没有寄生电阻的理想LBMOS元素。在本文中,我们提出了一种LBMOS的元素结构,其基于0.35μmCMOS工艺,使用源侧的双扩散技术[3]在源极侧产生通道(基于基于)。假设β{sub} f = 100和β{sub} r = 1,在Vdd = 1.2V中,它精确地具有寄生电阻和LBCMOS逆变器的容量,随着电流源电路模拟实验,使用上拉/下拉实施。特别地,除了基于基电阻之外,还研究了发射极结电容的特性降低的影响。 WN = WP =1.575μmLBCMOS逆变器与传统的CMOS逆变器相比,10倍,高速,1/3,对于5.534FF的大容量负载(相同逆变器的栅极电容)×100变成低能量操作。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号