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【24h】

TMR素子のバーストノイズ

机译:TMR元素的突发噪声

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摘要

TMR (Tunnel magnetoresistance)素子は、近年ハードディスクの再生用磁気ヘッドやMRAMとして実用化が始まっている。 このTMR素子にはGMR (Giant magnetoresistance)素子では見られなかったバリア層起因の電気ノイズが存在することが知られており、現在までいくつかの報告がなされている。一方、半導体分野のMOSFETにおいて、酸化ゲート膜に起因した時間的に発生間隔が長い電気的ノイズ(以降、バーストノイズ)が観測され研究の対象となっている。 そこで、MOSPETと同様に酸化バリアを持ったAlO-TMR素子においてもバーストノイズが発生するかどうかについて調べた。
机译:TMR(隧道磁阻)装置最近开始用作磁头或MRAM的实际用途,用于再现硬盘。 该TMR元件已经已知是由GMR(巨磁阻)设备中未发现的阻挡层引起的电噪声,并且已经迄今为止已经进行了几个报告。 另一方面,在半导体场中的MOSFET中,观察到由于氧化栅极膜而具有长产生间隔的电噪声(下文中,爆发噪声),并且研究符合资格。 因此,检查了是否在ALO-TMR元件中爆发噪声以及氧化屏障以及MOSPET。

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