シリカ保護膜による金膜の耐久性の向上(2)金膜形成条件の影響

摘要

金膜を高周波スパッタリングによるシリカ膜で覆うことで，金膜写真の耐擦過性?耐水性の向上を図った.金微粒子膜の 金膜への焼成の条件と，金微粒子調製時の現像条件の調整により金膜の平滑化を図り，膜硬度に与える影響を調べた.膜 硬度は鉛筆硬度法で測定した.高温長時間の焼成で膜の平滑性が上昇した.現像液へのアスコルビン酸の添加はより微小 な金微粒子を形成し，平滑化に寄与した.シリカ膜で覆った金膜の耐擦過性は，金膜の平滑性にはあまり依存しなかった. 一方，水没による膜の劣化に対しては，平滑性の高い膜ほど強い強度を示した.適切な膜形成により，金膜写真の耐久性 が向上した.