机译:插层化Z样品Bi2O4 / g-C3N4复合光催化剂的容易合成,用于有效去除2-巯基苯唑:降解途径和机理
Jilin Normal Univ Minist Educ Key Lab Preparat &
Applicat Environm Friendly Mat Changchun 130103 Jilin Peoples R China;
Jilin Normal Univ Coll Chem Siping 136000 Peoples R China;
Jilin Normal Univ Coll Chem Siping 136000 Peoples R China;
Jilin Normal Univ Coll Chem Siping 136000 Peoples R China;
Jilin Normal Univ Coll Environm Sci &
Engn Siping 136000 Peoples R China;
Photocatalysts; Z-scheme heterojunction; Intercalation structure; Bi2O4/g-C3N4; Visible light irradiation;
机译:插层化Z样品Bi2O4 / g-C3N4复合光催化剂的容易合成,用于有效去除2-巯基苯唑:降解途径和机理
机译:铋氧卤素基Z方案光催化剂的简便合成,用于可见光驱动的污染物去除:动力学,降解途径和机理
机译:基于氧氧化型Z形型光催化剂的体式合成可见光驱动污染物清除:动力学,降解途径和机理
机译:可见响应性硅藻土/ G-C3N4复合物的一步合成及其催化降解Cr(VI)
机译:通过嵌入整合NiFe2O4 / G-C3N4复合纳米粒子的0d电子介体的嵌入型-i型至Z形方案异质结:促进自由基生产用于光芬顿降解
机译:通过整合NiFe2O4 / G-C3N4复合材料嵌入0d电子介体的型 - Z方案异质结的转换:促进了光芬源降解的自由基