机译:用于EUV光刻的金属基材料
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Leuven Belgium;
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Leuven Belgium;
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Leuven Belgium;
EUV; Metal resists; Developer; Underlayers;
机译:用于EUV光刻的金属基材料
机译:带有二茂铁基侧基有机金属官能团的杂化聚合物材料:使用EUV光刻的合成及其在纳米图案中的应用
机译:含金属材料成为EUV光刻的转折点
机译:使用不可食用的纤维素基生物质抗蚀剂材料进行EB和EUV光刻
机译:EUV光刻系统幅度和相位瞳孔变化的测量
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:EUV光刻的金属基材料
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。