Rochester Institute of Technology.;
Aberrations; Aberrations metrology; Amplitude aberrations; EUV aberrations; EUV lithography; Photolithography;
机译:通过基于图像的方法测量EUV光刻光瞳振幅和相位变化
机译:低电平RF系统的高精度幅度和相位测量
机译:一种新的正弦拟合算法,用于在两个通道采集系统中进行准确的幅度和相位测量
机译:EUV光刻系统的基于图像的快速学生平面表征
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:通过基于图像的方法的EUV光刻瞳孔幅度和相位变化的测量
机译:使用全球定位系统进行幅度和相位闪烁测量