机译:快速退火对刮刀技术沉积Cu2ZNSS4吸收膜的结构特征和光学性质的影响
Helwan Univ Fac Sci Phys Dept Helwan 11795 Egypt;
Egyptian Atom Energy Author AEA Radiat Phys Dept NCRRT Cairo 11787 Egypt;
Friedrich Alexander Univ Erlangen Nurnberg FAU D-91058 Erlangen Germany;
Mat Dept 6 I MEET Martensstr 7 D-91058 Erlangen Germany;
Helwan Univ Fac Sci Phys Dept Helwan 11795 Egypt;
Friedrich Alexander Univ Erlangen Nurnberg FAU D-91058 Erlangen Germany;
Friedrich Alexander Univ Erlangen Nurnberg FAU D-91058 Erlangen Germany;
Mat Dept 6 I MEET Martensstr 7 D-91058 Erlangen Germany;
Cu2ZnSnS4 (Kesterite) Absorber Films; Doctor-Blade Technique; Solvothermal Method; Rapid Thermal Annealing;
机译:快速退火对刮刀技术沉积Cu2ZNSS4吸收膜的结构特征和光学性质的影响
机译:CZT共电沉积与化学浴技术Cu2ZNSS4沉积Cu2ZNSN4的一些光学结构性能的影响
机译:脉冲激光沉积(PLD)技术在不同退火温度下沉积的PbS薄膜的结构和光学性质
机译:通过真空蒸发方法生长的新吸收剂Cu2ZnSNS4薄膜的结构和光学性质
机译:通过掠角沉积沉积的喹啉金属螯合物薄膜的光学和结构性质。
机译:退火温度对化学浴镀(CBD)技术在低溶液浓度下沉积的CdS薄膜光学光谱的影响
机译:退火温度对喷雾热解沉积纯CdS薄膜的结构,光学和电学性质的影响