SEMI Technology Symposium2004レビュー－65nmプロセス以降の注目技術の動向

摘要

SEMICONJapan2004期間中に開催されたSemi Technology Symposium (STS)2004では，45nmプロセス世代における実用化を目指したマスク技術や65nmプロセス以降で実用化するデバイス技術，重要性の増しているテスト技術，液浸ArFを中心としたリソグラフィ技術，微細化によるRC遅延や電流密度の増大などが課題の多層配線，ゲートのエッチングやhigh-kゲート絶縁膜形成が問題のフロントエンドプロセス，量子コンピュータの実用化などに向けたナノテクノロジー，モバイル機器をターゲットとしたパッケージング技術などをテーマに3日間にわたって議論が繰り広げられた。