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机译:气体混合比变化对HBr / Cl-2 / Ar等离子体放电蚀刻剂物种密度分布对蚀刻剂(Br,Br +,Cl,Cl +和H)的影响的数值研究
PIEAS Dept Nucl Engn Islamabad Pakistan;
NUST Mil Coll Engn Dept Basic Sci Risalpor Campus Risalpor Pakistan;
PIEAS Dept Nucl Engn Islamabad Pakistan;
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机译:气体混合比变化对HBr / Cl-2 / Ar等离子体放电蚀刻剂物种密度分布对蚀刻剂(Br,Br +,Cl,Cl +和H)的影响的数值研究
机译:HBr + Cl-2 + O-2气体混合物中的等离子体参数,气相化学和Si / SiO2蚀刻机制:HBr / O-2混合比的影响
机译:Ar / CF4和Ar / O2 / CF4放电的双频电容耦合等离子体中电子密度和离子能量分布的实验研究
机译:非平衡等离子体放电对DME / O_2 / Ar混合物点火和NTC化学的影响:数值研究
机译:笔直放电(约束,电子)支持的非中性电子等离子体柱研究中的非均匀密度分布模型。
机译:电气放电过程产生的粒度分布的数值和实验研究
机译:出版商的注意事项:“基于CL和BR基等离子体中Si蚀刻的分子动力学模拟:Cl +和Br +离子发生在Cl和Br中性存在下”J。苹果。物理。 118,233304(2015)
机译:通过红外化学发光的离子 - 分子反应的振动产物状态分布:Cl- + HBr,HI产生HCl(v)+ Br-,I-