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机译:半导体薄膜:半导体BATIO 3 - sub> 3- Δ sub> i> Δ sub> △硅胶膜(小39/2017)
Institut de Ciència de Materials de Barcelona ICMABConsejo Superior de Investigaciones Científicas CSICCampus UAB 08193 Bellaterra Catalonia Spain;
Institut d'électronique et des Systèmes (IES)CNRS‐UM2.Batiment 5 860 Rue Saint Priest 34095 Montpellier France;
Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL)CNRS ‐ école Centrale de Lyon36 avenue Guy de Collongue 69134 Ecully France;
Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL)CNRS ‐ école Centrale de Lyon36 avenue Guy de Collongue 69134 Ecully France;
Institut de Ciència de Materials de Barcelona ICMABConsejo Superior de Investigaciones Científicas CSICCampus UAB 08193 Bellaterra Catalonia Spain;
Departamento de Física de Materiales and Instituto PluridisciplinarUniversidad Complutense de MadridMadrid 28040 Spain;
Institut des Nanotechnologies de Lyon (INL)CNRS ‐ école Centrale de Lyon36 avenue Guy de Collongue 69134 Ecully France;
Institut de Ciència de Materials de Barcelona ICMABConsejo Superior de Investigaciones Científicas CSICCampus UAB 08193 Bellaterra Catalonia Spain;
Centro de Investigación en Química Biolóxica e Materiais Moleculares (CIQUS) and Departamento Química‐FísicaUniversidade de Santiago de Compostela15782 Santiago de Compostela Spain;
Institut d'électronique et des Systèmes (IES)CNRS‐UM2.Batiment 5 860 Rue Saint Priest 34095 Montpellier France;
flexoelectricity; functional oxides; nanostructuration; resistive switching; silicon;
机译:半导体薄膜:半导体BATIO 3 - sub> 3- Δ sub> i> Δ sub> △硅胶膜(小39/2017)
机译:
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机译:催化不对称合成第二版。奥利马(Iwao Ojima)(编辑)Wiley-VCH:纽约(http://www.wiley.com/)。 2000。页数:XIV864页精装。价格:169.-欧元/330.54 DM / 294.- SFR。国际标准书号(ISBN):0-471-29805-0
机译:AC的侵蚀:D薄膜由低电极D +,