机译:通过退火温度纵向RF磁控溅射ZnO /石墨烯薄膜的结构和光学性质
Xian Univ Sci &
Technol School Commun &
Informat Engn Xian Shaanxi Peoples R China;
Northwest Univ Sch Informat Sci &
Technol Xian Shaanxi Peoples R China;
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RF magnetron sputtered; ZnO; graphene thin films; annealing temperature; optical properties;
机译:通过退火温度纵向RF磁控溅射ZnO /石墨烯薄膜的结构和光学性质
机译:退火温度对射频磁控溅射ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:反应射频磁控溅射后退火温度对ZnO和Zn_(1-x)Mg_xO薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:退火温度对射频磁控溅射的铝锌膜结构和光学性质的影响
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)