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机译:直接生长mos 2 sub> 2 和ws. 2 sub> 2 由金属有机化学气相沉积层
Inorganic Materials ChemistryRuhr‐University BochumUniversit?tsstr. 150 44801 Bochum Germany;
Institute of ElectrochemistryUlm UniversityAlbert‐Einstein‐Allee 47 89069 Ulm Germany;
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RUBIONRuhr‐University BochumUniversit?tsstr. 150 44801 Bochum Germany;
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Microsystems TechnologyRuhr‐University BochumUniversit?tsstr. 150 44801 Bochum Germany;
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chemical vapor deposition; molybdenum disulfide; photoelectrochemical water splitting; transition metal dichalcogenides; tungsten disulfide;
机译:直接生长mos 2 sub> 2 和ws. 2 sub> 2 由金属有机化学气相沉积层
机译:通过金属有机化学气相沉积在天然AlN衬底上调制AlN层的前驱体流外延生长
机译:氧化铝层使用低成本直接液体注射金属有机化学气相沉积(DLI-MOCVD)在AISI 1018钢上
机译:金属有机化学气相沉积在(001)GaAs上的GaN形核层的原子力显微镜和生长模型
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:通过化学气相沉积法控制单层WS2的ZnO控制生长
机译:通过金属 - 有机化学气相沉积的均匀单层MOS2纳米片的两步生长
机译:Inassb / Inpsb应变层超晶格生长使用金属有机化学气相沉积