首页> 外文期刊>石油化学新報 >東ソー、米に450mm用スパッタリングターゲット設備~来年末完工
【24h】

東ソー、米に450mm用スパッタリングターゲット設備~来年末完工

机译:东锯,溅射目标设施450mm到稻米结束的完整

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

東ソーグループの米トーソー·SMD(オハイオ州)は、本社工場でスパッタリングターゲット設備の建設に着手した。半導体市場における次世代のウエハーサイズである450mm品の生産·販売に乗り出すためで、2014年12月の完工を目指す。投資額は10億円弱。東ソーの高機能材料事業で取り扱うスパッタリングターゲットは、半導体·フラットパネルディスプレイ·太陽電池などのエレクトロニクス分野における薄膜形成材料として使用されており、今後もさらなる需要の拡大が見込まれている。
机译:East So Source,哦,哦,俄亥俄州,俄亥俄州(哦)开始在总部厂建造溅射目标设施。 为了开展450mm产品的生产和销售,这是半导体市场的下一代晶圆尺寸,我们的目标是在2014年12月完成。 投资金额不到10亿日元。 在东锯的高性能材料业务中处理的溅射目标用作电子领域的薄膜形成材料,例如半导体平板显示器和太阳能电池,预计将来会扩大进一步的需求。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号