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過冷却シリコンの垂直分光放射率とその熱放射機構

机译:过冷硅的垂直光谱发射率及其热辐射机构

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摘要

過冷却域を含む幅広い温度域での熱物性測定や非平衡物質創製プロセスの研究で用いられる種々の無容器実験における温度測定には,放射温度計が用いられている,放射温度計には,測定温度域における分光放射率の値が入力データとして必要であるが,従来,融点でのみ補正された放射率の値を全温度域に渡って一定であるという仮定の下で温度測定がなされているのが現状である。 化学的に活性な高温融体の分光放射率は,測定が困難であるため,信頼性の高い値は得られていない。 特に過冷却域におけるデータは皆無に等しい。 本研究では,相場からの試料への汚染および迷光による測定誤差を極力抑えた精度の高い測定を行うため,電磁浮遊法を採用し,過冷却域を含む幅広い温度及び波長における溶融シリコンの分光放射率測定を行った。 さらに,測定値を基にDrudeの自由電子モデルを用いて溶融シリコンの熱放射機構について考察した。
机译:辐射温度计用于在宽温度范围内的热测量,包括过冷区域和在研究非平衡材料生成过程中使用的各种无限实验中的温度测量,用于辐射温度计,尽管测量中的光谱发射率的值温度范围是输入数据所需的,在假设中仅在熔点校正的发射率的值在总温度范围内恒定的温度测量。有目前的情况。由于难以测量化学活性高温熔体的光谱发射率,因此没有获得可靠的值。特别是,过冷区域没有数据。在本研究中,为了测量高精度,通过杂散光从市场价格和测量误差造成高精度,采用电磁浮动方法,以及在宽范围温度和波长的熔融硅的光谱辐射,包括过冷区域速率进行测量。此外,使用基于测量值的磨牙的自由电子模型考虑熔融硅的热辐射机理。

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