レーザ処理装置整流装置およびレーザ処理装置（特許第6124425号）（図6）

摘要

本発明は、局所ガス雰囲気を形成して被処理体にレーザ光を照射して、処理を行うことを可能にするレーザ処理装置整流装置およびレーザ処理装置に関するものである。特許文献（特開2002-217124号）では、レーザビームが照射される領域を囲う雰囲気制御手段と、雰囲気制御手段内に異なるガスを供給し得る複数のガス供給手段と、このガス供給手段により供給された前記雰囲気制御手段内のガスをアニールチャンバーから排気する排気調整手段とを有するレーザアニール装置が提案されている。