机译:稀释溶剂和二氧化碳涂层技术的研制
国立研究開発法人 産業技術総合研究所 化学プロセス研究部門 〒983-8551 仙台市宮城野区苦竹4-2-1;
机译:稀释无溶剂二氧化碳涂层技术的发展趋势
机译:稀释溶剂和二氧化碳涂层技术的研制
机译:稀释无溶剂二氧化碳涂层技术的实际应用研究
机译:使用高压二氧化碳的低环保载喷涂技术的开发作为稀释溶剂的替代方案
机译:利用数字制造技术开发利用磁力的用户界面系统
机译:利用超临界二氧化碳技术提高镀铜附着强度的研究及新型印刷电路板(pCB)制造方法的开发