机译:Mg-Ti-H膜原位氢化的脱氢过程和热稳定性通过微波反应等离子体辅助副溅射技术氢化
Univ Grenoble Alpes LPSC CNRS IN2P3 53 Rue Martyrs F-38026 Grenoble France;
Perm State Univ 15 Bukirev Str Perm 614990 Russia;
CNRS Inst NEEL BP 166 F-38042 Grenoble 9 France;
Univ Grenoble Alpes LPSC CNRS IN2P3 53 Rue Martyrs F-38026 Grenoble France;
CNRS Inst NEEL BP 166 F-38042 Grenoble 9 France;
CNRS Inst NEEL BP 166 F-38042 Grenoble 9 France;
Univ Grenoble Alpes LPSC CNRS IN2P3 53 Rue Martyrs F-38026 Grenoble France;
Mg-Ti-H films; Plasma assisted reactive co-sputtering; Metal hydrides; Thermal stability; Hydrogen storage;
机译:Mg-Ti-H膜原位氢化的脱氢过程和热稳定性通过微波反应等离子体辅助副溅射技术氢化
机译:微波等离子体辅助沉积技术制备的含镍非晶氢化碳膜的介电性能
机译:微波等离子体辅助沉积由甲烷-氩气和乙炔-氩气混合物制备的铜/氢化非晶碳复合膜的结构特征
机译:反应性射频共溅射对硼氢化非晶硅膜的P型掺杂
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:用DC反应磁控溅射技术制备的Ni0.5Co0.5Fe2O4纳米复合膜特性的影响参数
机译:非晶氢化膜的热稳定性和分解动力学