机译:使用射频磁控腐蚀系统沉积退火的Alsnzno薄膜的电气和光学性能
Natl Cheng Kung Univ Dept Photon Tainan 701 Taiwan;
Natl Cheng Kung Univ Inst Microelect Dept Elect Engn Tainan 701 Taiwan;
Natl Cheng Kung Univ Dept Photon Tainan 701 Taiwan;
Aluminum-tin-zinc-oxide (ATZO) films; Annealing treatment; Radio frequency magnetron cosputtering system;
机译:使用射频磁控腐蚀系统沉积退火的Alsnzno薄膜的电气和光学性能
机译:通过射频磁控溅射沉积MgZno薄膜电气和光学性能的影响
机译:退火对射频磁控溅射在GaAs(001)衬底上沉积的ZnO薄膜样品的电和光学性能的影响
机译:射频磁控溅射沉积的Ni掺杂Cu_3N膜的结构,电气和光学性能
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:快速热退火用于射频磁控溅射沉积的高质量ITO薄膜
机译:磁控共溅射合成Au纳米复合薄膜的电学和光学性质