クラスタービームを用いたイオン注入装置を商品化

摘要

日新イオン機器は高エネルギーイオン注入装置などの既存のイオン注入装置では実現困難であった接合深さ9mm以下の極浅接合形成に必要とされる300eV以下の極低エネルギー，高電流ビーム注入を可能としたクラスターイオン注入装置「CLARIS」を世界で初めて製品化した。