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机译:MultiStep磁控溅射工艺和原位热处理制造厚,完全氧化,结晶良好的YSZ薄膜
Univ Orleans CNRS UMR7344 GREMI 14 Rue Issoudun F-45067 Orleans France;
Univ Orleans CNRS UMR7344 GREMI 14 Rue Issoudun F-45067 Orleans France;
CEA DAM F-37260 Le Ripault Monts France;
Univ Tours EA 2640 LMR 7 Ave Marcel Dassault F-37200 Tours France;
Univ Orleans CNRS UMR7344 GREMI 14 Rue Issoudun F-45067 Orleans France;
Reactive magnetron sputtering; Yttria stabilized zirconia; Oxidation state; In-situ heat treatment; Multistep process;
机译:MultiStep磁控溅射工艺和原位热处理制造厚,完全氧化,结晶良好的YSZ薄膜
机译:用厚单晶和薄膜磁控溅射的SOFC原位拉曼研究的比较
机译:厚度对平面磁控溅射制备的近等原子TiNi薄膜的结晶特性的原位TEM研究
机译:带和不带外部加热的RF磁控溅射制备ITO薄膜的结晶行为观察
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:高效YSZ电解质薄膜SOFC的DC反应磁控溅射沉积工艺优化。