机译:使用脉冲DC PECVD工艺在窄管内硬钛氮化钛涂层沉积
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
Polytech Montreal Dept Engn Phys Montreal PQ H3C 3A7 Canada;
P-DC PECVD; NLOS; TiN coating; Hollow cathode; Inner surface;
机译:使用脉冲DC PECVD工艺在窄管内硬钛氮化钛涂层沉积
机译:通过使用脉冲DC PECVD工艺DLC沉积在长管内部
机译:使用脉冲直流放电在钢管内沉积坚硬且粘附的类金刚石碳膜
机译:氮化钛涂层的脉冲激光沉积和生物相容性
机译:用于植入物的改良氮化钛涂层的脉冲激光沉积工艺。
机译:厚度对脉冲激光沉积合成氮化钛薄膜体外生物相容性的影响
机译:窄管内壁上的氮化钛涂层