机译:通过化学气相沉积在六边形氮化硼膜上的无金属硅纳米线垫的选择性生长
Samsung Adv Inst Technol Suwon 16678 South Korea;
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Sungkyunkwan Univ SKKU SKKU Adv Inst Nano Technol SAINT Suwon 16419 Gyeonggi Do South Korea;
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Samsung Adv Inst Technol Suwon 16678 South Korea;
Si nanowire mat; Hexagonal boron nitride; Dimensional control of growth; Chemical vapor deposition; Dielectric film;
机译:通过化学气相沉积在六边形氮化硼膜上的无金属硅纳米线垫的选择性生长
机译:低压化学气相沉积硅和蓝宝石衬底上六边形氮化硼膜的合成
机译:生长参数对通过低压化学气相沉积法在蓝宝石衬底上生长的六方氮化硼薄膜成膜的影响
机译:等离子体辅助化学气相沉积法合成六边形氮化硼薄膜的方法
机译:从乙硅烷,锗烷和氯中重掺杂硼的硅锗薄膜的选择性化学气相沉积,用于纳米级CMOS的源/漏结。
机译:金属有机化学气相沉积法在Ni(111)上高质量地生长六方氮化硼的晶片规模和选择性区域
机译:通过射频等离子体辅助化学气相沉积法在晶体硅上生长的高取向六方氮化硼薄膜的微观结构
机译:微波等离子体增强化学气相沉积法制备氮化硅晶体薄膜