机译:RF-磁控溅射合成的氢化硅膜的光学,结构演化和表面形态学研究:压力和射频功率在低温下的影响
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Univ Oran 1 Lab Phys Couches Minces &
Mat Elect Ahmed Ben Bella BP 1524 El Mnaouar 31000 Oran Algeria;
Deposition parameters; Hydrogenated microcrystalline silicon; structure; rf power; Roughness; Radiofrequency magnetron sputtering; Optical studies;
机译:RF-磁控溅射合成的氢化硅膜的光学,结构演化和表面形态学研究:压力和射频功率在低温下的影响
机译:射频磁控溅射在低生长温度下制备的氢化硅膜的光学和结构性质:作为氩气稀释功能的研究
机译:低温缓冲,射频功率和退火对射频磁控溅射生长的ZnO / Al_2O_3(0001)薄膜的结构和光学性能的影响
机译:低温PECVD沉积的氢化非晶硅氧化膜的电,光学和结构研究,用于晶体硅太阳能电池的表面钝化
机译:低温合成的氢化氮化铝薄膜的光学和结构表征
机译:不同生长角度的射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)