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机译:三维胶体干扰光刻
North Carolina State Univ Dept Mech &
Aerosp Engn Raleigh NC 27695 USA;
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nanolithography; three-dimensional nanostructures; colloids; self-assembly; interference lithography;
机译:三维胶体干扰光刻
机译:胶体分散体制备三维压印光刻模板
机译:多束干涉光刻技术在等离子刻蚀辅助下制备三维高分子机械超材料
机译:胶体量子点中的四个激光束干涉产生的三维动态光子晶体
机译:多光束干涉光刻技术制备新型三维光子晶体
机译:高纵横比和三维SU-8微/纳米结构的单光子多层干涉光刻
机译:使用电子束光刻和三维激光光刻,用三维聚苯乙烯胶体晶体浸渍金属布线
机译:用胶体分散体制备三维压印光刻模板