日本ゼオン、高岡の半導体用絶縁膜新設備稼働へ～2010年度下期

摘要

日本ゼオンは、高岡工場（富山県高岡市）で完成していた新規低誘電率層間絶縁膜（Low-K）材料「ZEOMAC（ゼオマック）」設備を2010年度下期に稼働させる見込み。半導体分野の需要が回復基調にあることから、上期中に稼働時期を判断する。ゼオマックは、次世代タイプの絶縁膜として2004年10月に高岡工場に量産設備を整え発売。新設備は2008年3月に事業停止した特殊塩ビの製造工場跡地に建設し、増産体制を整える予定だった。