交流磁場の連続印加と間欠印加による溶融金属中介在物分離特性の比較

摘要

溶融金属中介在物の電磁分離は、介在物の効率的な分離法として注目を集めている。 高周波磁場の印加による電磁分離法においては、介在物が表皮厚さまで分離。 蓄積されると、それ以上の除去は期待できない。 ノ表皮厚さを増加するためには磁場の周波数を減少させる必要があるが、その場合には溶融金属の激しい電磁流動によって電磁分離が妨害される。 このような問題を解決するために、前報で磁場の間欠印加法を提案した。 Fig.1は磁場の間欠印加（印加時間·停止時間各1秒）によって周波数3kHzにおける表皮厚さ4.71mmに匹敵する粒子集積層厚みを達成した例である。 本研究では、間欠磁場印加法における介在物分離特性を連続印加法との比較において詳細に調査することを目的として、種々の条件で分離案験を行った。