机译:直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射在SAW应用中沉积的AlN膜
aluminum nitride; physical vapor deposition; HiPIMS; surface acoustic wave;
机译:直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射在SAW应用中沉积的AlN膜
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在不同工作压力下沉积的AlN薄膜的结构性能和残余应力的比较
机译:Cu的作用对由高功率脉冲磁控溅射和脉冲DC磁控溅射组合的混合系统沉积的TIB2膜微观结构和性能
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜