机译:掺镁胶体二氧化硅磨料的制备及其在蓝宝石上的化学机械抛光性能
Chemical Mechanical Polishing (CMP); Sapphire; Mg-Doped Colloidal Silica Abrasives; Material Removal Rate;
机译:掺镁胶体二氧化硅磨料的制备及其在蓝宝石上的化学机械抛光性能
机译:钴掺杂胶体二氧化硅磨料的制备及其对蓝宝石的化学机械抛光性能
机译:钛掺杂单分散胶体SiO2复合磨料的制备及其在蓝宝石基底上的化学机械抛光性能
机译:掺镁胶体二氧化硅磨料的制备及其在硅片上的化学机械抛光性能
机译:用于化学机械抛光的二氧化硅和二氧化铈纳米颗粒混合磨料浆料的胶体稳定性研究。
机译:金属有机化学气相沉积在蓝宝石衬底上生长的低Al成分p-GaN / Mg掺杂Al0.25Ga0.75N / n + -GaN极化诱导的反向隧穿结
机译:Ag2O改性二氧化硅磨料的制备及其在蓝宝石上的化学机械抛光性能